Высоковакуумный кластер нанолокальных и групповых технологий
В состав кластера входят:
Высоковакуумный модуль фокусированных ионных пучков с системой газовых инжекторов (Модуль FIB CVD)
Технические характеристики |
||
| Высоковакуумная колонна FIB | ||
| Разрешение | не хуже 7 нм | |
| Рабочее поле | 300х300 мкм | |
| Рабочий отрезок | 9 - 24 мм | |
| Энергия пучка | 1-30 кэВ | |
| Ионный ток | от 1 пА до 40 нА | |
| Время отсечки тока | не более 100 нсек | |
| Система газовых инжекторов | ||
| Количество каналов напуска газов | 5 | |
| Контроль температуры увждого резервуара с газом | есть | |
| Диапазон перемещения трехосевого микропозиционера выходных сопел | 12 мм | |
| Колонна SEM | ||
| Разрешение | не хуже 15 нм | |
| Энергия пучка | 10 - 30 кэВ | |
| Ток | 10 пА - 100 нА | |
| Система позиционирования образца | ||
| Диапазон позиционирования | 100x100х15 мм | |
| Точность репозиционирования, XY | 0.3 мкм | |
| Точность репозиционирования, Z | 1 мкм | |
| Вакуумная система | ||
| Турбомолекулярный и безмасляный спиральный насос | ||
| Базовый вакуум | 5х10-8 Торр | |
| Температура прогрева | 150оС | |
Высоковакуумный модуль сканирующего зондового микроскопа с системой газовых инжекторов (Модуль GIS SPM)
Нанолокальность не только при исследовании, а и при создании структуры зондовыми методами – задача модуля СЗМ с системой газовых инжекторов (GIS SPM).
Система инжекторов на 5 резервуаров с микропозиционером выходных сопел и контролем температуры позволяет создавать заданные химические условия в области воздействия зонда СЗМ на образец. Здесь наилучшим образом сочетаются локальность зондового микроскопа и деликатность системы газовых инжекторов, позволяющей локально создавать заданные химические условия без нарушения чистоты процесса (то есть условий высокого вакуума).
Технические характеристики |
|
| Количество камер | 2 |
| Размер образца | подложки диаметром 2, 3, 4’’, образцы произвольной формы с латеральными размерами до 100 мм, толщиной до 8 мм |
| Масса образца | не более 150 г |
| Точность репозиционирования образца после проведения измерений в других модулях комплекса |
не хуже: 3 мкм |
| Смена зондовых головок | полностью автоматизированная |
| Система газовых инжекторов | |
| Количество каналов напуска газов | 5 |
| Контроль температуры каждого резервуара с газом | |
| Трехосевой микропозиционер выходных сопел с диапазоном перемещения 12 мм |
Модуль импульсного лазерного осаждения (Модуль PLD)
Импульсное лазерное осаждение (Pulsed Laser Deposition) представляет собой многоцелевой, универсальный метод нанесения тонких пленок различных материалов.
Высокая функциональность модуля, относительная простота обслуживания, быстрое переключение между различными технологическими процессами в сочетании с высокой однородностью получаемых пленок – все это делает модуль импульсного лазерного осаждения отличной машиной как для исследовательских, так и для технологических применений.
Технические характеристики |
|
Размер подложки |
100 мм |
Количество мишеней |
6 мишеней Ø25 мм |
Максимальная температура подложки |
950 оС для кремния и других непрозрачных подложек |
Равномерность прогрева подложки |
±6 оС по всей площади 100 мм подложки |
Точность поддержания температуры подложки |
±2 оС по всей площади 100 мм подложки |
Количество каналов напуска газов |
не менее 3 |
Максимальное остаточное давление после прогрева в течение 48 часов |
5 х 10-8 Торр |
Система откачки |
безмасляная |
Максимальная скорость вращения подложки |
30 мин-1 |
| Температура прогрева камеры роста оС | 150 |
| Используемый лазер | |
| Модель | Coherent Model COMPex PRO 102 |
| Активная среда | KrF |
| Длина волны | 248 нм |
| Максимальная энергия в импульсе | 400 мДж |
| Длительность импульса | 20 нс |
| Система RHEED | |
| Рабочее давление | до 200 мТорр |
| Энергия пучка | 1-30 кэВ |
| Ток пучка | до 120 мкА |
Сверхвысоковакуумный модуль межоперационного складирования (Модуль SSRT)
Модуль загрузки для нанолокальных технологий (Модуль FUL)
Сверхвысоковакуумный радиальный транспортный модуль (Модуль RDC)
Особенностью кластера является проведение нанолокальных стимулированных процессов газофазного осаждения/травления. Нанолокальность обеспечивается фокусированными ионными пучками и сканирующими острийными зондами.
Наличие модуля импульсного лазерного осаждения обеспечивает получение разнообразных подложек высокой степени чистоты для формирования наноструктур. При этом наличие GIS SPM обеспечивает получение и контроль получаемых наноструктур с субнанометровым разрешением.
Габаритные размеры кластера - 325х490 см.